光刻机|晋宇达|厦门光刻机

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      光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的**。

所谓光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的**企业。

光刻机性能指标分辨率是对光刻工艺加工可以达到的较细线条精度的一种描述方式。

光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，光刻机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，无锡光刻机，手动、半自动、全自动

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